안녕하세요.

반도체 장비를 생산하는 업체의 연구실 소속 최재혁이라고 합니다.

자사가 생산하는 제품중에 오존 발생기가 있으며 이 생산 제품의 주요 부품에 대해서는 

전량 수입에 의존 하고 있습니다.

언급된 주요 부품에 대해서 설명을 드리면 Chamber로 이루어진 발생장치 안에 O2를 

주입하고 촉매제와 플라즈마를 이용하여 O3를 발생시키는 역할로서 발생기의 핵심이라

고 할 수 있습니다.

자사 보안 규정에 따라 자세한 내용을 설명드릴 수 없는 점 양해를 부탁 드립니다, 

핵심 기술에 대한  위탁 및 공동 연구개발을 계획하고 있습니다.

교수님께서 시간이 되시면 저희 회사 인원과 함께 찾아 뵙고 프레젠테이션을 진행 했으

합니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92290
209 고진공 만드는방법. [1] 1008
208 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
207 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1001
206 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 998
205 anode sheath 질문드립니다. [1] 984
204 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
203 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 974
202 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 974
201 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 968
200 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 962
» 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 960
198 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 959
197 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 955
196 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 950
195 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 941
194 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 920
193 Plasma Generator 관련해서요. [1] 911
192 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 890
191 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 885
190 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 881

Boards


XE Login