번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73542
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 106024
94 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [상압 플라즈마 방전 메커니즘과 특성] [1] 680
93 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 680
92 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 677
91 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 668
90 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 661
89 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 658
88 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 657
87 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 652
86 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 648
85 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 648
84 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 647
83 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 647
82 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 638
81 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 635
80 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 635
79 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 622
78 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 622
77 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 622
76 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 619
75 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 619
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