안녕하십니까

광주과학기술원 박사과정 학생인 김현일입니다.

이번에 CCP장비를 제작하면서 

CCP장비 분석을 어떻게 해야할지 잘모르고 discharge에 문제가 있어 이렇게 문의드리게 되었습니다.

CCP 장비에서 electrode 사이에 인가되는 방전 전압 및 전류값을 측정하고싶은데

아래 그림과 같이 챔버 외부에서 high voltage probe로 측정을 하였을때 인가되는 전압을 방전전압으로 측정이 가능한지 알고 싶습니다.

그리고 전류는 접지되는 electrode에서 접지선에서 측정되는 전류로 측정을할수있는지 알고싶습니다.

그리고 현재 사용하는 RFPT사의 matcher장비의 impedence matching이 

CCP장비에서 발생하는 plasma의 밝기가 어느정도 이상으로 높아지면 impedance maching을 못맞추는 문제가 발생합니다.

인가 전압이 상승하면 CCP의 임피던스가 감소한다고 하던데 생성되기 쉬운 범위로 올라가면 impedance maching 범위를 벗어나는것은 아닌것으로 생각되는데 단순 장비의 문제인지 궁금합니다.(처음에 plasma가 발생하다 maching이 깨지고 장비가 제대로 매칭이 안됩니다.)

임피던스가 감소하면서 반대로 maching 범위 밖으로 나가는거라면 단순히 impedance matcher 안에있는 코일의 L값이 좀더 큰 코일로 교체하면되는지도 알고싶습니다.

긴 질문글 읽어주셔서 감사합니다.