Others 플라즈마 밀도와 라디칼

2024.03.13 13:45

김준서 조회 수:287

안녕하세요, 플라즈마에 대해 공부중인 3학년 학부생입니다.

 

플라즈마 밀도는 탐침을 통해 전자의 밀도를 측정함으로써 계산한다고 알고 있습니다.

플라즈마는 준준성이므로, 사실상 이는 이온의 밀도와도 거의 비슷할 것으로 생각합니다.

그렇다면 라디칼의 밀도 또한 플라즈마 밀도와 비례하는 것이 맞나요?

 

전자&이온 밀도 증가<-비탄성 충돌을 일으킬만한 에너지를 가진(가속된) 전자가 충분하며, gas의 몰(mole)수도 충분함

<-따라서 라디칼의 생성 확률도 높음

 

추가적으로, Pressure가 플라즈마 밀도에 끼치는 영향이 궁금한데,

인터넷에서는 압력이 증가하면 기체 몰수가 증가하므로 그만큼 이온&라디칼이 많아진다고 설명하는 글이 많았습니다.

하지만 흔히 알려진 파셴법칙과 연결해서 생각해보면, 압력이 증가할수록 MFP 또한 짧아지기 때문에 그만큼 전자가 충분히 가속되지 못할 가능성이 있다고 생각합니다. 따라서 최대한의 플라즈마 밀도 구현을 위해서는 적절한 Pressure을 설정해 주어야한다고 생각하는데, 해당 분석이 맞을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76911
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20298
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57217
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68766
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92739
39 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 217
38 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 212
37 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 209
36 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 206
35 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 204
34 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 197
33 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 194
32 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 192
31 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 189
30 skin depth에 대한 이해 [1] 180
29 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 174
28 ICP에서 전자의 가속 [1] 173
27 corona model에 대한 질문입니다. [1] 172
26 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 158
25 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 155
24 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 147
23 Microwave & RF Plasma [1] 144
22 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 143
21 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 140
20 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 126

Boards


XE Login