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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68931
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92985
29 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 146
28 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 144
27 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 142
26 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 140
25 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 134
24 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 129
23 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 127
22 플라즈마 설비에 대한 질문 121
21 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 111
20 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 103
19 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 96
18 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 93
17 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 92
16 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 90
15 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 89
14 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 83
13 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 82
12 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 73
11 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 68
10 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 67

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