안녕하십니까

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법은 무엇인지 어쭙고자 글을 올리게 되었습니다.

고주파 유도가열(3MHz)을 이용하여 실리콘(Si)을 가열하여 아르곤 분위기에서 실리콘 결정성장을 시키고 있습니다.

(코일은 팬케이크 형태임.)결정 성장을 시킬때 가끔씩 코일에 플라즈마가 발생하며,이로인해 코일arcing이 가끔 발생하여 코일이

소손되는것 같습니다.

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법이 없을지 문의 드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76928
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57226
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68775
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92754
178 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13067
177 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12773
176 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. 12365
175 플라즈마 살균 방식 [2] 11494
174 DC bias (Self bias) [3] 11312
173 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10387
172 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9535
171 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9257
170 안녕하세요 교수님. [1] 9047
169 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 9006
168 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8932
167 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8747
166 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8582
165 핵융합에 대하여 8564
» 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8127
163 MFP에 대해서.. [1] 7831
162 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
161 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6472
160 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6453
159 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6419

Boards


XE Login