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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건]
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DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법]
[3] | 1641 |
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Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]
[1] | 1641 |
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dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [플라즈마 생성 반응]
[1]  | 1623 |
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수방전 플라즈마 살균 관련.. 문의 드립니다. [플라즈마 기술 센터 문의]
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RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화]
[1] | 1596 |
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micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계]
[1] | 1556 |
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ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [국부 전기장 형성 및 reflect power]
[2] | 1540 |
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공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1470 |
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anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘]
[1] | 1463 |
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산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1446 |
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CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias]
[1] | 1419 |
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
[1] | 1407 |
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CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion]
[1] | 1388 |
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반도체 METAL ETCH시 CH4 GAS의 역할 [플라즈마 식각기술]
[1] | 1256 |
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ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 1251 |
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주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating]
[1] | 1244 |
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플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law]
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Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
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Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet]
[1] | 1207 |
