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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다.
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109 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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108 |
Ground에 대하여
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107 |
Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network)
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106 |
matching box에 관한 질문
[1] | 29360 |
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105 |
esc란?
| 27760 |
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104 |
Arcing
[1] | 27700 |
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103 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27202 |
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102 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 26921 |
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101 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26097 |
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100 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 25450 |
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99 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25450 |
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98 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24596 |
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97 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24525 |
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96 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24513 |
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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94 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?
[3] | 22447 |
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Peak RF Voltage의 의미
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