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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72680
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132 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48804
131 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41610
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129 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36349
128 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 30005
127 Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] 28937
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125 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 27968
124 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27558
123 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26828
122 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태] [2] 26794
121 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25697
120 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25268
119 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25162
118 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24996
117 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24973
116 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23463
115 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 23067
114 Peak RF Voltage의 의미 22817
113 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22787

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