공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[158]
| 72995 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17585 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55512 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65685 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86006 |
155 |
플라즈마내에서의 아킹
| 43187 |
154 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34690 |
153 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 31192 |
152 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 30850 |
151 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
| 29343 |
150 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 29282 |
149 |
RF에 대하여...
| 28794 |
148 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28454 |
147 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24533 |
146 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24317 |
145 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 23835 |
144 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23381 |
143 |
Arcing
| 23235 |
142 |
Dry Etcher 에 대한 교재
[1] | 22378 |
141 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계
[1] | 22335 |
140 |
PEALD관련 질문
[1] | 22106 |
139 |
플라즈마 코팅에 관하여
| 21973 |
138 |
펄스바이어스 스퍼터링 답변
| 21769 |
137 |
스퍼터링시 시편두께와 박막두께
[1] | 21258 |
136 |
UBM 스퍼터링 장비로...
[1] | 20752 |