Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의
2021.11.30 15:37
안녕하세요.
Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.
Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,
PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.
C + O* → O2↑
여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,
여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??
N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.
추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,
H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76743 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20213 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92299 |
785 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144489 |
784 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134445 |
783 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95646 |
782 | Plasma source type | 79655 |
781 | Silent Discharge | 64557 |
780 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54901 |
779 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47830 |
778 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43698 |
777 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41238 |
776 | 대기압 플라즈마 | 40706 |
775 | Ground에 대하여 | 39414 |
774 | RF frequency와 RF power 구분 | 39065 |
773 | Self Bias | 36383 |
772 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35916 |
771 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34956 |
770 | PEALD관련 질문 [1] | 32616 |