ICP RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
2021.11.08 17:20
안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.
언제나 친절한 답변 감사 드립니다.
다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.
Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면
파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데
왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.
저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데,
플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.
감사합니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76745 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20215 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92304 |
569 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16946 |
568 | 플라즈마 처리 | 16932 |
567 | ICP 식각에 대하여... | 16916 |
566 | Virtual Matchng | 16853 |
565 | sputter | 16845 |
564 | nodule의 형성원인 | 16761 |
563 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16658 |
562 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
561 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16485 |
560 | 플라즈마의 어원 | 16334 |
559 | 궁금해서요 | 16316 |
558 | 궁금합니다 [1] | 16177 |
557 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16068 |
556 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16036 |
555 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16023 |
554 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
553 | k star | 15957 |
552 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15920 |
551 | corona | 15886 |
550 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |