DC glow discharge 플라즈마 관련 기초지식
2019.09.16 00:41
안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.
다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데
여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다
정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?
기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.
부탁드립니다!! 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [270] | 76745 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20216 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68706 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92304 |
529 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13203 |
528 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13056 |
527 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12809 |
526 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12759 |
525 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12491 |
524 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12356 |
523 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11450 |
522 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11422 |
521 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11335 |
520 | DC bias (Self bias) [3] | 11265 |
519 | RGA에 대해서 | 10543 |
518 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10379 |
517 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10361 |
516 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10355 |
515 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10302 |
514 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9968 |
513 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9849 |
512 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9843 |
511 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9666 |
510 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9637 |