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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown]
[1] | 8301 |
533 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp]
[1] | 8280 |
532 |
고온 플라즈마 관련
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531 |
정전척 isolation문의 입니다. [Paschen's law와 절연파괴현상]
[1] | 8122 |
530 |
MFP에 대해서.. [Collisional cross section]
[1] | 8093 |
529 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
[2] | 8040 |
528 |
플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의]
[1] | 7966 |
527 |
CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전]
[1] | 7940 |
526 |
ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성]
[1] | 7561 |
525 |
O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응]
[2] | 7278 |
524 |
저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성]
[1] | 7097 |
523 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport]
[1] | 7050 |
522 |
RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정]
[4] | 7019 |
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코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient]
[1] | 7017 |
520 |
O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154
[1] | 6960 |
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
[2] | 6827 |
518 |
플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전]
[1] | 6796 |
517 |
안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리]
[2] | 6782 |
516 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
[1] | 6773 |
515 |
플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage]
[1] | 6762 |