안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75763
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19449
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56669
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68021
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90306
457 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 7699
456 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7668
455 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7550
454 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7485
453 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6900
452 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6873
451 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6551
450 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6520
449 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6518
448 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6435
447 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6426
446 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6398
445 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6395
444 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6383
443 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6339
442 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6323
441 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6247
440 자료 요청드립니다. [1] 6165
439 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6132
438 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5976

Boards


XE Login