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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
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367 etching에 관한 질문입니다. [1] 2255
366 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2251
365 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2234
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363 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2223
362 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2223
361 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2179
360 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2171
359 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2117
358 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2115
357 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2047
356 chamber impedance [1] 2006
355 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1998
354 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1994
353 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1988
352 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1980
351 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1974
350 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1971
349 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1964
348 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1964

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