|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
| 73076 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 17641 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 55521 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 65727 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 86104 |
|
287 |
3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1698 |
|
286 |
유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1684 |
|
285 |
공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다!
| 1680 |
|
284 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1674 |
|
283 |
잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1672 |
|
282 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 1668 |
|
281 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1665 |
|
280 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1663 |
|
279 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
[1] | 1636 |
|
278 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1617 |
|
277 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1603 |
|
276 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1598 |
|
275 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1569 |
|
274 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1563 |
|
273 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1555 |
|
272 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 1548 |
|
271 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1546 |
|
270 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1526 |
|
269 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1522 |
|
268 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 1516 |
