안녕하세요..

저는 반도체회사에 근무하는 직장인입니다

RF Generator와 Impedance 관련 궁금한 것이 있어 자문을 얻고자합니다


현재 CVD 공정에서 일하고 있으며, ICP 설비를 다루고 있는데,

동일한 설비이나 Turbo Pump Model이 달라(RPM이 다름) 동일한 Gas 량을 Chamber에 넣어도 Chamber Pressure에 차이가 납니다

실제 공정진행 시 4.7mT,  6.7mT로 약 2mT 차이가 발생하는데요..

이러한 경우에 챔버의 Impedance에도 차이가 나는지, 또 차이가 난다면 어느정도가 나는지 알고 싶습니다.


또 하나는 RF Generator에 관한 질문인데요..

RF Generator는 2MHz를 사용하며, 3000KW출력을 내는 4개의 P/A Board로 구성되어 있어 최대 12000KW 출력을 낼수 있습니다.

P/A Board간의 Current Ballance가 중요하다고 하는데, 왜 중요한지 알고 싶으며,

현재 P/A Board 의 발열에 의한 Burnning 문제가 있는데, 이 Board 간 Current Ballance가 발열에도 영향을 미치는지 알고 싶습니다.


수식으로 설명이 가능하다면 더 이해가 잘 될 거 같은데.. 답변 부탁드립니다.


 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76860
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20264
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57197
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68749
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92637
317 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1537
316 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1536
315 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1530
314 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1519
313 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1516
312 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1507
311 charge effect에 대해 [2] 1475
310 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1467
309 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1467
308 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1466
307 알고싶습니다 [1] 1466
306 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1466
305 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1465
304 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1464
303 ICP lower power 와 RF bias [1] 1460
302 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1456
301 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1452
300 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1445
299 Ar plasma power/time [1] 1441
298 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1437

Boards


XE Login