Remote Plasma surface wave plasma 에 대해서
2010.04.10 19:26
안녕하세요.. 저는 이태효라고 합니다.
플라즈마에 대해서 이것저것 공부하던 중에 high density plasma 방법중에 마이크로 웨이브를 이용한 방법이 있는 것을 보았습니다.
보통 CCP나 ICP 또는 Helicon plasma 그리고 ECR에 대해서는 어느정도 방법이 나와있지만 마이크로파를 이용한 surface wave plasma에 대해서는 자료가 거의 없더군요....
해서 게시판에 매번 눈팅만 하다가 질문을 올리게 됐습니다.
1. 첫째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식이 있는데 이것에 대한 플라즈마를 발생시키는 원리에 대해서 알고 싶습니다.
- 플라즈마 일렉트로닉스란 책도 참고로 보았지만 잘 이해가 안가네요...;;;;
2. 두번째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식은 전자온도가 낮다고 들었는데요... 이유가 어떤건지도 궁금합니다.
- ECR 도 마이크로 웨이브를 이용하는데 이건 일반적인 ICP보다 전자온도가 높은것으로 알고 있는데요.. SWP에 대한 원리를 몰라서 그런지 왜 전자온도가 낮은지 아무리 생각해도 잘 모르겠네요.
매번 게시판을 잘 이용하고 있고 많은 도움을 받고 있습니다.
그럼 하시는 연구 잘되기를 바라구요... 답변 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76739 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20211 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68703 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92294 |
249 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1177 |
248 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1174 |
247 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1169 |
246 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1164 |
245 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1159 |
244 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1157 |
243 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1157 |
242 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1156 |
241 | 공정플라즈마 [1] | 1147 |
240 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1144 |
239 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1141 |
238 | 자기 거울에 관하여 | 1139 |
237 | 전자 온도 구하기 [1] | 1132 |
236 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
235 | wafer bias [1] | 1129 |
234 | Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] | 1121 |
233 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1120 |
232 | 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] | 1118 |
231 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
230 | 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] | 1113 |