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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도]
[1] | 24699 |
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플라즈마가 불안정한대요.. [압력과 전력 조절]
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Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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765 |
self Bias voltage [Self bias와 mobility]
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플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
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Arcing [아크의 종류와 발생 원인]
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플라즈마 쉬스 [Sheath와 self bias]
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761 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
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760 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate]
[2] | 24005 |
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플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. [플라즈마 도서 추천]
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758 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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CCP/ICP , E/H mode
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DC glow discharge
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754 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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고온플라즈마와 저온플라즈마
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752 |
No. of antenna coil turns for ICP [안테나 turn 수와 플라즈마 발생 효율]
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751 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating]
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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