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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67526
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708 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27098
707 플라즈마 온도 27072
706 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 26863
705 이온과 라디칼의 농도 file 26696
704 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 26469
703 self bias (rf 전압 강하) 26442
702 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26288
701 충돌단면적에 관하여 [2] 25863
700 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 25764
699 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25508
698 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 24935
697 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24873
696 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24679
695 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24676
694 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24673
693 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24629
692 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24491
691 플라즈마가 불안정한대요.. 24435
690 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24316
689 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24093
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