Ion/Electron Temperature ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
2017.07.07 15:24
안녕하세요 저는 유니스트에 재학중인 대학원생 홍석모입니다.
제가지금 ICP CVD장비를 사용하고 있는데 플라즈마에 대한 배경지식이 없어서 혹시나 도움이 될까 글을 남겨 봅니다.
지금 저희가 쓰고 있는 장비의 스펙에 대해서 간단히 설명드리면
cylinder type
출력 주파수 13.56MHz
주파수 안정도 ±0.005%
RF 출력 임피던스 50 ohm nominal
AC 입력Power Line 208/220/230 Vac/단상 50-60Hz
정격RF Power Output YSR-06MF: 600W @ 50 ohm.
RF Output Connector N Type
DIMENSION 482W * 458D * 178H / 36Kg
그리고 작동 압력은 0.1 torr에서 0.01torr사이에서 작동 하고 있습니다.
제가 궁금한것은 power와 ionenergy사이의 관계를 알고 싶고, 시뮬레이션이 가능하다면 어떤 프로그램으로 할수 있는지 알려주시면 정말 감사하겠습니다.
감사합니다.
홍석모.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] | 72995 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17584 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55512 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65685 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86006 |
107 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2093 |
106 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2039 |
105 |
플라즈마볼 제작시
[1] ![]() | 2009 |
104 | RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] | 1954 |
103 | 질문있습니다. [1] | 1873 |
102 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 1866 |
101 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 1848 |
100 | RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] | 1826 |
99 | CVD 공정에서의 self bias [1] | 1707 |
98 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! | 1672 |
97 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 1651 |
96 | 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] | 1628 |
» | ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] | 1601 |
94 | 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] | 1522 |
93 | RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] | 1519 |
92 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 1467 |
91 | 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] | 1457 |
90 | O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] | 1378 |
89 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1341 |
88 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1308 |