Plasma Source 플라즈마 챔버

2021.03.18 20:01

도나츠바 조회 수:1243

안녕하십니까. 반도체 업체에 근무하고 있는 회사원입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마에 챔버에 대해 질문이 있어 이렇게 글을 올립니다.

 

플라즈마 챔버 설계를 진행하려 합니다.

 

혹시....... Gas를 NF3를 사용하게 되면 스테인리스 챔버로 제작를 진행해도 괜찮을까요? 

 

아니면 알루미늄 챔버로 제작을 해야 하나요?

 

위 두가지 챔버 제작의 경우 사용 불가한 이유가 있으면 알고 싶습니다.

 

너무 궁긍하여 글을 올립니다.

 

답변 부탁드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20207
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92289
79 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1900
78 가입인사드립니다. [1] 1880
77 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1812
76 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1737
75 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
74 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
73 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1609
72 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1602
71 plasma 형성 관계 [1] 1517
70 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1488
69 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1453
68 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1445
67 ICP lower power 와 RF bias [1] 1436
66 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1402
65 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1395
64 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1355
63 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1330
62 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1323
61 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1290
60 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1273

Boards


XE Login