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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
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27 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 545
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21 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 444
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18 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 346
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16 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 277
15 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 270
14 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 269
13 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 226
12 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 197
11 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 192
10 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 169
9 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 169
8 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
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