Sputtering gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제]
2023.11.13 17:15
안녕하세요 스퍼터링 공부중인 학생입니다.
실험으로 스퍼터김운용 중 기타 변수들을 동일하게 하고 Ar20 sccm고정 02 를 2,4,6 조절하며 두께 및 저항값을 측정하고 있습니다.
o2양이 증가함에 따라 deposition rate가 감소하여 동일시간 증착시 더 증착되고 저항값도 커지는걸로 알고 있습니다만 제가 알고 있는 것이 맞을까요?
또한 4point prboe 측정시 2sccm 은 면저항이 5.6 옴정도로 측정되고 4sccm은 평균 400옴정도로 측정되는데 정상인지 여쭤보고 싶습니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [309] | 78473 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21040 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57867 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69400 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93945 |
» | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] | 336 |
3 | Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] | 229 |
2 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] | 132 |
1 | RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. | 113 |