Collision 충돌단면적에 관하여
2004.06.19 15:56
대개의 ICP-Type의 공정은 매우 낮은 압력에서
이루어지는 것으로 알고 있습니다. 이런 경우
전자의 mean free path를 기준으로 플라즈마관련
문제를 푸는 것으로 알고 있습니다. 여기서 질문인데요...
압력이 10mTorr 정도인 경우 mean free path가 충분히 길어
지는 것으로 알고 있습니다. 이런 경우 mean free path를
Chamber의 Size를 기준으로 계산을 해도 되는지 여쭤보고
싶습니다. 만일 안된다면 어떤 이유인지요...^^
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20184 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
785 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144474 |
784 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134445 |
783 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95635 |
782 | Plasma source type | 79654 |
781 | Silent Discharge | 64557 |
780 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54895 |
779 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47824 |
778 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43696 |
777 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41237 |
776 | 대기압 플라즈마 | 40706 |
775 | Ground에 대하여 | 39405 |
774 | RF frequency와 RF power 구분 | 39063 |
773 | Self Bias | 36382 |
772 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35910 |
771 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34956 |
770 | PEALD관련 질문 [1] | 32614 |