플라즈마 기초부분에서 에너지 분포와 이온화에 대한 질문입니다.
전자온도와 이온화 에너지가 주어져 있을때 에너지 분포(EEDF)를 이용한다면 전자의 약 %가 이온화에 기여하는지 어떻게 알 수 있는지요?
<구체적인 식이 궁금합니다. 예를 들어 전자온도가 3V , 이온화에너지가 약 15V라 한다면)
일정한 부피에 전자의 갯수가 정해져있을때 온도의 단위가 V(볼트)로 주어진다면 운동에너지를 어떻게 구할 수 있을까요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] | 76750 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20217 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57170 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92310 |
786 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144502 |
785 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134446 |
784 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95659 |
783 | Plasma source type | 79659 |
782 | Silent Discharge | 64557 |
781 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54903 |
780 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47832 |
779 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43698 |
778 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41239 |
777 | 대기압 플라즈마 | 40706 |
776 | Ground에 대하여 | 39419 |
775 | RF frequency와 RF power 구분 | 39068 |
774 | Self Bias | 36384 |
773 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35918 |
772 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34957 |
771 | PEALD관련 질문 [1] | 32617 |