Matcher matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
2020.01.11 04:30
안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.
에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우
오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요
원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서
애를먹는 경우가 있습니다
매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76736 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20206 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57168 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68702 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92280 |
785 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144482 |
784 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134445 |
783 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95642 |
782 | Plasma source type | 79654 |
781 | Silent Discharge | 64557 |
780 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54899 |
779 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47829 |
778 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43697 |
777 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41237 |
776 | 대기압 플라즈마 | 40706 |
775 | Ground에 대하여 | 39409 |
774 | RF frequency와 RF power 구분 | 39063 |
773 | Self Bias | 36382 |
772 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35916 |
771 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34956 |
770 | PEALD관련 질문 [1] | 32614 |