Plasma in general corona model에 대한 질문입니다.
2023.04.26 15:33
안녕하세요 대학원생 석사 과정을 밟고 있는 위창현입니다.
질문드리고 싶은 내용은 다름이 아니라 corona phase와 같은 특수한 경우 ionization ratio인 ion number density와 neutral particle number density의 비가 electron impact ionization rate coefficient와 radiative recombination rate coefficient의 비로 표현할 수 있게 되고, 전자의 밀도와 연관이 없는 것으로 식이 나타내지게 되는데, 플라즈마에서는 플라즈마의 전하가 quasi neutral을 띠기 때문에 전자의 수와 이온의 수가 같은 것을 알 수 있습니다.
질문은 quasi neutral상태의 ionization ratio에서 ion number density대신 electron number density를 쓰면 안되는 이유는 뭔가요?
number density의 개념이기 때문에, 전자의 온도가 이온의 온도보다 매우 높은 비평형 플라즈마에서는 electron number density가 ion number density보다 높기 때문에 ionization ratio에서 ion number density를 사용하는 것인가요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] | 75763 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19449 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56670 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68022 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90307 |
753 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143647 |
752 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134366 |
751 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94824 |
750 | Plasma source type | 79110 |
749 | Silent Discharge | 64526 |
748 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54291 |
747 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47499 |
746 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43617 |
745 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 41015 |
744 | 대기압 플라즈마 | 40452 |
743 | RF frequency와 RF power 구분 | 38975 |
742 | Ground에 대하여 | 38969 |
741 | Self Bias | 36317 |
740 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35538 |
739 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34822 |
738 | PEALD관련 질문 [1] | 32176 |