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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[279]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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400 |
Load position 관련 질문 드립니다.
[1] | 2459 |
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399 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 2452 |
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398 |
plasma etching을 관련 문의드립니다.
[1] | 2438 |
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397 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 2406 |
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396 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 2373 |
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395 |
안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 2371 |
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394 |
CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다
[1] | 2365 |
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393 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 2364 |
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392 |
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
| 2362 |
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391 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 2359 |
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390 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 2359 |
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389 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 2347 |
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388 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 2347 |
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387 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2345 |
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386 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 2344 |
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385 |
플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는?
| 2336 |
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384 |
Wafer particle 성분 분석
[1] | 2335 |
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383 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2335 |
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382 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 2304 |
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381 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 2301 |
