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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF Generator 주파주에 따른 Matcher Vms 변화 [주파수에 따른 임피던스 변화]
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283 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계]
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282 |
SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리]
[1] | 1364 |
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281 |
MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [Collisional sheath 정의]
[1] | 1362 |
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280 |
잔류시간 Residence Time에 대해 [표면 유속 정보, 유체해석 코드]
[1] | 1354 |
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플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI]
[2] | 1353 |
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278 |
Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리]
[1] | 1352 |
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277 |
식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering]
[1] | 1336 |
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전자 온도 구하기 [쉬스 전압, 스퍼터링 효과]
[1]  | 1335 |
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275 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석]
[1] | 1324 |
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274 |
ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속]
[1] | 1322 |
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etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution]
[1] | 1310 |
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272 |
챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자]
[1] | 1305 |
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산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 1300 |
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270 |
wafer bias [Self bias]
[1] | 1284 |
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공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1282 |
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268 |
RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning]
[1] | 1281 |
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대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
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쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1264 |
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265 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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