Plasma Source 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source]
2022.12.31 20:23
안녕하세요 부산대학교 학사과정을 진행중인 서재현입니다.
열심히 관련 사항들을 찾아보고 이론적 이유를 알고자 하였으나 제가 전자전공이 아닌 기계전공이라 정보를 찾는데 한계가 있어 질문드립니다!
현재 RF Ion source unit 을 이용해 플라즈마를 발생시켜 이용하는 장비를 사용하고 있습니다.
제가 사용하는 장비의 AO flux는
1. rf에서 발생한 plasma를 재료에 노출
2. 노출에 따른 재료의 질량손실 발생
3. 질량손질을 이용한 ao flux 계산
의 방법을 사용해 측정한걸로 알고 있습니다. 이때의 조건은 압력 : 10^-6 torr, o2 gas : 9.9sccm, 임피던스 130w 입니다.
그리고 그 결과 재료에서 ao flux 는 6.13 * 10^15 atom/cm^2s 측정되었다고 설명되어 있습니다.
제가 궁금한 점은 진공수준에 따른 ao flux의 변화를 그래프와 같은 수식으로 표현할 수 있는 방법이 존재하는가 입니다.
게시판의 지식을 통해 제가 이해한 것으로는, 만약 다른조건은 동일하지만 압력만 10^-2 torr 로 조건을 변화시킨다면 ao flux는 진공수준이 낮아졌기에 감소하게 될 것입니다. 10^-6 torr 에서는 ao flux는 ao flux 는 6.13 * 10^15 atom/cm^2s 였습니다. 그렇다면 10^-2 torr에서 ao flux는 이보다 감소한 값을 가지게 될 것입니다.
제가 ao flux가 감소할 거라 생각한 이유는
1. 진공수준이 감소함에 따라 plasma가 이동하는데 방해를 많이 받음
2. 이러한 방해로 인해 plasma source로 부터 발생한 ao 가 재료에 영향을 주는 정도가 감소
3. 결과적으로 ao flux가 적게 측정되는 결과 입니다.
그래서 제가 질문할 것은 다음과 같습니다.
: 진공수준과 ao flux를 수식적 혹은 그래프로 연구된 자료가 있는가? 와 없다면 실험적으로 측정하는 방법밖에 없는가 입니다!
결과적으로 다른 조건이 동일하고 압력 수준만 10^-6 torr에서 10^-2 torr로 바뀌면 ao 의 변화정도 입니다.
감사합니다!