안녕하세요.

저는 현재, 반도체 시장 조사 업무를 하고있는 직장인 석현준이라고 합니다.

명실상부 대한민국 최고의 플라즈마 랩실에 자유롭게 질문을 올릴 수 있어서 개인적으로도 정말 큰 도움이 되고,

크게 보면 산학연 협력의 선순환이 현장에서 이루어지고 있는 곳이라고 생각합니다. 정말 감사합니다.
 

다름이 아니라, 제가 플라즈마 장비의 전원공급장치에 대해서 잘 모르는게 있어서 문의드리게 되었습니다.

플라즈마 장비의 전원 공급장치는 RF Generator를 쓰거나, DC Power supply를 사용하는 것으로 알고있습니다.

저의 짧은 지식으로 분류하면 아래와 같습니다. (아니라면 지적 부탁드립니다.)

- RF : ICP, CCP, CVD, ALD...(유전체 식각, 증착)

- DC : PVD(메탈증착), 스크러버(그냥 파워만 인가하면 되는 용도)

여기서, 그러면 Pulsed DC Supply는 어디에 사용하는 것인지, RF와의 차이점은 무엇인지가 궁금합니다.

장비사 입장에서 전원공급장치를 달 때, Pulsed DC를 다는 경우와 RF를 다는 경우가 나뉠텐데 

그 기준이 어떤지도 잘 몰라서 문의드리게 되었습니다.

감사합니다.

PS. 자주 눈팅하면서 여러 정보들을 얻고 있습니다.

     더불어 플라즈마 지식도 수 있는 공간을 제공해주셔서 감사합니다 ^^