Matcher 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다.
2019.12.19 15:17
안녕하세요.
반도체 관련 업종에 취직한 신입입니다.
현재 사내 플라즈마 테스트 장비에서의 매쳐 값을 검토 하는 중 막히는 부분이 있는 중
장비를 뜯어보기도 어렵고, 전임자는 이미 퇴사하여 혼자 이것저것 찾으며 하려니 도움 청할데가 마땅히 없어서 글 올립니다..
매쳐의 테스트 결과 데이터를 뜯어본 내용은 다음과 같습니다
XC1 = (READ_AIO(RF_LOAD) + 0.00001) * 15 * 0.000000000001;
XC2 = (READ_AIO(RF_TUNE) + 0.00001) * 5 * 0.000000000001;
A = 3.141592 * 2 * 13560000;
d1 = Power(50, 2); 제곱
d2 = Power(1 / (A * XC1), 2); 제곱
R = (50 * d2) / (d1 + d2);
J = -(d1 * 1 / (A * XC1)) / (d1 + d2) + (A * 0.0000012) - (1 / (A * XC2));
결과는 대략 z=2.269+j56.126 정도 나옵니다.
얕은 지식으로는 XC1, XC2는 매쳐에서의 직, 병렬 가변 커패시터 값을,
A는 각속도 ω, J 에서 (A * 0.0000012) 값은 인덕터 값으로 보여집니다.
하지만 이외의 값들은 어떻게 저런 계산이 도출되었는지 이해가 되지 않습니다.
일반적인 L 타입 매쳐는 아닌 것으로 보여 상기 값으로 매쳐의 임피던스가 도출 되려면 어떤 회로로 구성되어있는지 알고 싶습니다.
도움 부탁 드립니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [274] | 76811 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20240 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92569 |
676 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20578 |
675 | 확산펌프 | 20518 |
674 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20481 |
673 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20428 |
672 | Langmuir probe tip 재료 | 20411 |
671 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20387 |
670 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20312 |
669 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20262 |
668 | 형광등과 플라즈마 | 20255 |
667 | 플라즈마 matching | 20243 |
666 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20208 |
665 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20205 |
664 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20061 |
663 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20030 |
662 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20010 |
661 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19840 |
660 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19781 |
659 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19766 |
658 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19731 |