Remote Plasma RPSC 관련 질문입니다.
2016.07.18 19:13
안녕하세요
Remote Plasma Source Cleaning 에 대해 질문이 있습니다.
PECVD Chamber Cleaning을 위해 RPSC를 사용한다고 알고 있습니다.
Plasma를 챔버안에서 안터트리고 외부에서 만들어서 챔버 데미지를 안입힌다고 하는데 그 개념이 잘 이해가 안됩니다.
그럼 RPSC에서 터트리면 RPSC도 데미지를 입게되나요?
아니면 유도 전기장을 이용해서 데미지가 적은것인가요?
또한 직접 Chamber 에서 플라즈마 터트려 Cleaning 하는 것보다 Cleaning 주기도 길다고 하는데요.
그 이유도 궁금하네요.
답변 부탁드릴게요 ㅜㅜ
감사합니다.
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] | 76816 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20246 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57186 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68738 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92575 |
| 19 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95707 |
| 18 | PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] | 24987 |
| 17 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24350 |
| 16 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18547 |
| 15 | In-flight plasma process | 15505 |
| 14 | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14474 |
| 13 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10365 |
| » | RPSC 관련 질문입니다. [2] | 4030 |
| 11 | RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] | 2392 |
| 10 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2019 |
| 9 | Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] | 1952 |
| 8 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1196 |
| 7 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1188 |
| 6 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1]  | 1176 |
| 5 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1049 |
| 4 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 760 |
| 3 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 582 |
| 2 | 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] | 443 |
| 1 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 | 5 |