안녕하세요. 반도체 회사 근무중인 송용재입니다.
3가지 질문을 드리려고 합니다.
염근영 교수님 플라즈마 식각 기술이라는 책을 구매하여 보고있는데 제 실력이 부족해서 이해가 되지않아 질문 남깁니다.
1. 이온의 속도는 왜 전자의 온도로 결정되는건가요? 공식은 알겠지만 .. 메카니즘이 이해되지 않아 질문 남깁니다.
2. RF 등가회로는 왜 저항으로 표기 되는건가요??
3. 파센법칙 관련해서 질문드립니다.
진공상태에서 거리가 멀어지는데 왜 입자수가 증가되는건가요?
입자간의 전기장은 전자의 가속과 왜 관계가 있는건가요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76875 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92697 |
793 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144626 |
792 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134453 |
791 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95755 |
790 | Plasma source type | 79691 |
789 | Silent Discharge | 64560 |
788 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54943 |
787 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47896 |
786 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43706 |
785 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41271 |
784 | 대기압 플라즈마 | 40713 |
783 | Ground에 대하여 | 39472 |
782 | RF frequency와 RF power 구분 | 39087 |
781 | Self Bias | 36390 |
780 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35959 |
779 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34964 |
778 | PEALD관련 질문 [1] | 32642 |