====================================<질문>===================================
전 대학원에서 ICP장비를 이번부터 배우려고 하는 학생입니다.
sheath 영역은 플라즈마 장비를 배우는데, 그보다도 플라즈마를 배우는데 매우 중요한 것으로 알고 있습니다. 좀더 이 영역에 대한 좀더 자세한 내용을 알고 싶은데 어디에서 찾을 수 있을지 궁굼합니다. 그리고 selective etching에대해 알고 싶습니다.
====================================<답변>===================================
질문하신 내용의 대부분은 이미 설명한 내용입니다.
본란을 잘 찾아 보시기 바랍니다.
특히 ICP든 CCP든 플라즈마 발생 방법에 대해서 공부를 하고자
한다면 이 또한 이미 설명 드린 내용에서 기초적인 이해를 얻을 수
있을 것 입니다.
한 가지 권하고 싶은 것은 ICP 공부 이전에 DC glow 방전에 대해서 먼저
이해하고 공부를 시작하기 바랍니다.
(+ 저희 플라즈마 응용 연구실의 강의록을 참조하기 바랍니다.)
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74892 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18749 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56229 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66707 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88076 |
714 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 142729 |
713 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134282 |
712 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 93915 |
711 | Plasma source type | 78079 |
710 | Silent Discharge | 64496 |
709 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 53587 |
708 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47058 |
707 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43299 |
706 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 40706 |
705 | 대기압 플라즈마 | 40198 |
704 | RF frequency와 RF power 구분 | 38859 |
703 | Ground에 대하여 | 38491 |
702 | Self Bias | 36235 |
701 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35175 |
700 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34743 |
699 | PEALD관련 질문 [1] | 31876 |