Others 반도체 관련 질문입니다.
2011.01.11 09:51
안녕하세요.
반도체 배선이 좁아지면서 달라지는것이 무었이 있을까요?
예를들어 가스의 양이 늘어난다거나, Power가 세진다거나...
어떤 변화들이 있을까요?
답변 부탁드릴께요^^ 좋은 하루 되세요.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [62] | 1664 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 4824 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 49539 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 59750 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] | 75926 |
| 640 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 89864 |
| 639 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 79114 |
| 638 | Plasma source type | 71827 |
| 637 | Silent Discharge | 63426 |
| 636 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 47932 |
| 635 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 43602 |
| 634 | 플라즈마내에서의 아킹 | 42978 |
| 633 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 39550 |
| 632 | Self Bias | 34793 |
| 631 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 34210 |
| 630 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 32638 |
| 629 | Ground에 대하여 | 31929 |
| 628 | 대기압 플라즈마 | 31052 |
| 627 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 30751 |
| 626 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 30207 |
| 625 | DC Bias Vs Self bias [5] | 29978 |
| 624 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 29708 |