Others 고진공 만드는방법.
2017.12.15 22:16
background pressure 이 10^-7이 되게 하려면
단순히 diffusion pump 와 rotary oil pump만을 이용해서 만들수있나요??
그리고 전체적인 구조는 어떻게 될가요. background pressure 가 10^-7이면
ultrahigh vac을 만드려고 하는거 같은데 ion pump 나 TSP가 추가돼야 할까요?
단순하게 이론적으로 궁금하네요.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75432 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19168 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56480 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67563 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89370 |
| 744 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 143369 |
| 743 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134329 |
| 742 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 94492 |
| 741 | Plasma source type | 78884 |
| 740 | Silent Discharge | 64513 |
| 739 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54019 |
| 738 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47326 |
| 737 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43570 |
| 736 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 40906 |
| 735 | 대기압 플라즈마 | 40370 |
| 734 | RF frequency와 RF power 구분 | 38924 |
| 733 | Ground에 대하여 | 38764 |
| 732 | Self Bias | 36280 |
| 731 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35414 |
| 730 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34785 |
| 729 | PEALD관련 질문 [1] | 32072 |
시스템 재료, 설계와 물리는 문제입니다. 진공 이론은 제법 소개가 많이 되어 있으니, 전문 서적을 참고하시고, 설계 등의 상세한 내용은 이전 한국표준과학연구원의 진공센터 혹은 '첨단측정장비연구소 내 반도체측정장비연구그룹'에서 자문을 구할 수 있을 것 같습니다.