Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76857 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20262 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57194 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92611 |
793 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144585 |
792 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134450 |
791 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95723 |
790 | Plasma source type | 79671 |
789 | Silent Discharge | 64560 |
788 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54932 |
787 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47874 |
786 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43705 |
785 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41264 |
784 | 대기압 플라즈마 | 40710 |
783 | Ground에 대하여 | 39452 |
782 | RF frequency와 RF power 구분 | 39081 |
781 | Self Bias | 36388 |
780 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35946 |
779 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34964 |
778 | PEALD관련 질문 [1] | 32624 |