Chamber Impedance Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다.
2022.09.27 13:01
안녕하세요.
저는 RF Generator의 power amlifier를 연구하고 있는 학생입니다.
Load impedance를 50 ohm으로 설계를 했는데 matcher가 없을 때의 power amlifier의 성능을 확인하고자 합니다.
Chamber impedance의 범위가 어떻게 되는지 질문드립니다.
감사합니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] | 99921 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 24127 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 60755 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 72721 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 104142 |
829 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate] | 148507 |
828 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134583 |
827 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 97470 |
826 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 80292 |
825 | Silent Discharge | 64638 |
824 | VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] | 55822 |
823 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] | 48811 |
822 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43905 |
821 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 41611 |
820 | 대기압 플라즈마 | 40924 |
819 | Ground에 대하여 | 40023 |
818 | RF frequency와 RF power 구분 | 39442 |
817 | Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] | 36712 |
816 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] | 36350 |
815 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35270 |
814 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 32991 |