CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] | 72998 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17589 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55512 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65687 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86017 |
505 | 충돌 | 17527 |
504 | 플라즈마와 자기장의 상호작용 | 17524 |
503 | Plasma Gas의 차이점 [1] | 17477 |
502 | 플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서.. | 17476 |
501 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17446 |
500 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17369 |
499 | 유전체 플라즈마 | 17362 |
498 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17284 |
497 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 17176 |
496 | Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. | 17152 |
495 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17127 |
494 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 17106 |
493 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17088 |
492 | 질문있습니다 교수님 [1] | 17041 |
491 | Light flower bulb | 17039 |
490 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 | 16947 |
489 |
PSM을 이용한 Radical측정 방법
![]() | 16945 |
488 | 형광등으로 부터 플라즈마의 이해 | 16938 |
487 | 플라즈마 처리 | 16835 |
486 | RF에 대하여,, | 16823 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.