Sputtering sputter
2004.06.25 10:55
질문 ::
Glass ITO(Indium tin Oxide) sputter coating을 할때
온도의 변화가 막에 어떤 영향을 주는지 알고 싶네요..
온도의 변화가 중요한 영향을 미치는것으로 알고있습니다.
답변 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20847 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93632 |
599 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
![]() | 17002 |
598 | ICP 식각에 대하여... | 16966 |
597 | 플라즈마 처리 | 16951 |
» | sputter | 16872 |
595 | Virtual Matchng | 16869 |
594 | nodule의 형성원인 | 16792 |
593 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16710 |
592 | 몇가지 질문있습니다 | 16597 |
591 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16537 |
590 | 플라즈마의 어원 | 16365 |
589 | 궁금해서요 | 16345 |
588 | 궁금합니다 [1] | 16193 |
587 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16101 |
586 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16075 |
585 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16036 |
584 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16019 |
583 | k star | 15962 |
582 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15932 |
581 | Sputter | 15924 |
580 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15915 |