안녕하세요 반도체 회사에 다니고있는 구성원입니다.

에칭장비를 담당하는데, 챔버 pm후 RF가 세팅값까지 안올라오는 경우

오토매칭을 사용하지 않고, 매쳐의 LOAD,TUNE값을 조절해서 RF POWER를 원하는 값으로 맞추는데요

원리를 모르고 하다보니, 시간이 오래걸리고, 조절하다보면 FORWARD값은 맞춰지지만 REFLECT값도 함께 올라가서

애를먹는 경우가 있습니다

매쳐에서 LOAD, TUNE의 역할은 무엇인가요??? 또한 원하는 FORWARD/REFLECT값을 얻기위해 LOAD/TUNE 조절을 쉽게 할 수 있는 방법이 있을까요?

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76888
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20284
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92712
539 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. 13206
538 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13066
537 반응기의 면적에 대한 질문 12813
536 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12772
535 ICP와 CCP의 차이 [3] 12536
534 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. 12364
533 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11496
532 플라즈마 살균 방식 [2] 11491
531 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11488
530 DC bias (Self bias) [3] 11306
529 RGA에 대해서 10551
» matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10462
527 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10386
526 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10379
525 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10320
524 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 10020
523 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9882
522 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9845
521 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9675
520 대기압 플라즈마에 대해서 9643

Boards


XE Login