안녕하세요 반도체 장비회사에서 이제 막 배우기 시작한 신입사원입니다.

평소에 홈페이지에서 도움을 많이 얻었지만 학습 중 궁금한게 있어 여쭤봅니다.


제목 그대로 Edge Ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 글 남깁니다.


Edge Ring을 사용하는 이유가 Wafer Edge에서 형성되는 Sheath Region의 영향을 받아 Ion의 방향성이 수직으로 입사하지 않고 틀어진다고 알고있습니다.

그렇다면 Chamber 상부의 전극을 Control 하여 Wafer Edge에서 Ion 방향성 제어를 한다면 Edge Ring 없이 구현 가능하지 않을까 해서 글 남깁니다.

인터넷에 수없이 찾아봤지만 Edge Ring 없이 구현하는 ESC 관련 자료는 없기에 불가능 할것 같긴 합니다.

Edge Ring을 사용하는 이유가 위의 이유 이외에 다른것이 있는 것인지도 궁금합니다.



1. 상부 전극을 제어하여 Wafer Edge 부분에서 Ion 방향성을 제어한다면 Edge Ring 없이 구현가능한지 궁금합니다.


2. 위에 언급한 이유 외에 Edge Ring을 사용하는 다른 이유가 혹시 존재하는지 궁금합니다.


너무 두서없이 질문한것 같아 죄송합니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76739
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20211
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68703
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92294
529 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. 13202
528 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13056
527 반응기의 면적에 대한 질문 12809
526 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12759
525 ICP와 CCP의 차이 [3] 12491
524 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. 12356
523 플라즈마 살균 방식 [2] 11450
522 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11420
521 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11333
520 DC bias (Self bias) [3] 11263
519 RGA에 대해서 10543
518 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10379
517 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10356
516 Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] 10355
515 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10300
514 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9967
513 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9849
512 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9843
511 수중 방전 관련 질문입니다. [1] 9666
510 대기압 플라즈마에 대해서 9637

Boards


XE Login