Chamber component 알고싶습니다
2020.09.09 11:31
안녕하세요. 반도체 장비부품쪽 업종에서 일을 하고 있습니다.
현재 Etch 장비를 Coating 후 1Cycle을 사용한 후 Particle Issue가 일어나 중간에 세정을 진행하여 장착하면 E/R값이 상승합니다.
E/R값을 잡기 위해서 세정후에 Coating면에 Plasma를 조사하면 어떨까 하는데 효과가 있을지가 궁금하고 E/R값이 전반적으로 어떤 것에 영향이 미치는지 궁금합니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76855 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20262 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57193 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92610 |
| 517 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9529 |
| 516 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9526 |
| 515 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9265 |
| 514 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9246 |
| 513 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9043 |
| 512 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8993 |
| 511 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8928 |
| 510 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8751 |
| 509 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8733 |
| 508 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8683 |
| 507 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8621 |
| 506 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8615 |
| 505 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
| 504 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8581 |
| 503 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
| 502 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8550 |
| 501 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8136 |
| 500 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8125 |
| 499 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
| 498 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8050 |
실공정에서는 seasoning으로 이 문제를 해결하는 것으로 알고 있습니다. 식각의 경우 벽면에 흡착된 F가 탈착하면서 식각률을 키우는 것으로 예상됩니다. 이는 역으로 전공정에서 F의 벽면 흡착이 진작되고 있음의 반증이기도 하여, 세정 후 시스닝 과정을 거쳐 이전 공정 상태와 유사한 표면 상태를 만들고 공정을 진행하게 됩니다. 원론적인 말씀을 드렸습니다. 재료와 공정 가스 및 조건에 따를 것으로 운용 장비의 플라즈마 데이터와 공정 데이터 및 부품 표면 특성에 대한 정보를 종합해서 데이터를 취합하시면 좋을 것 같습니다. 부품-장비-공정이 물리는 문제이며, 이는 최근에 장비 및 공정 이슈인 TTTM (tool-to-tool matchi: 장비간의 이격 해소 방법을 찾기 위한 중요한 자료로서 가치가 큼) 까지 고려하는 것이 좋을 것 같습니다. 가급적 부품의 재료/제작/표면 상태 에 대한 정보를 많이 찾아서 비축해 두시기 바랍니다. (데이터가 큰 값어치를 할 때가 올 것이니 대비하시는 것이 좋습니다) 참고가 되었으면 합니다.