안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73076
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17641
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65727
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86104
407 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7411
406 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7282
405 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6691
404 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 6523
403 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6510
402 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6482
401 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6382
400 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6343
399 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6339
398 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6283
397 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6278
396 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6267
395 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6250
394 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6171
393 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6136
392 자료 요청드립니다. [1] 6094
391 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 5958
390 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5834
389 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5740
388 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 5731

Boards


XE Login