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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66859
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399 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5779
398 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 5590
397 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5527
396 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5400
395 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5328
394 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5306
393 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5145
392 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 5024
391 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5001
390 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4705
389 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4694
388 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4690
387 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 4676
386 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4320
385 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4319
384 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4029
383 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3965
382 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3827
381 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3788
380 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3762
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