슬라이드2.JPG

슬라이드3.JPG

 

슬라이드4.JPG

 

슬라이드5.JPG

 

슬라이드6.JPG

 

안녕하세요.

코로나방전, 이온풍에 굉장히 관심이 많은 학생입니다.

물어볼곳이 없어 많이 힘드네요 ㅠㅠ

제가 공부한 내용들을 파워포인트로 정리 해봤는데요

혹시 내용이 맞는지 어디가 잘못되었는지 궁금합니다.

조언 부탁드립니다.

감사합니다~!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103333
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24717
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61527
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105953
514 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6677
513 플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화] [1] 6676
512 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6614
511 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해] [2] 6587
510 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질] [1] 6581
509 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6545
508 자료 요청드립니다. [1] 6540
507 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe] [3] 6505
506 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6468
505 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성] [1] 6287
504 RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스] [1] 6281
503 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 6270
502 RF calibration에 대해 질문드립니다. 6185
501 DRAM과 NAND 에칭 공정의 차이 ["플라즈마 식각 기술"] [1] 5948
500 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 5888
499 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5814
498 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5758
497 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5704
496 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5474
495 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5298

Boards


XE Login