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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68938
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92986
470 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4273
469 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4185
468 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4098
467 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4058
466 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4037
465 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4032
464 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 4030
463 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3993
462 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
461 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3892
460 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3885
459 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3870
458 Descum 관련 문의 사항. [1] 3798
457 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3759
456 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3714
455 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3711
454 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3641
453 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3622
452 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3618
451 ESC Cooling gas 관련 [1] 3596

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