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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage]
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플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호]
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491 |
플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응]
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RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수]
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Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포]
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HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue]
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Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas]
[1] | 4603 |
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ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘]
[2] | 4582 |
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SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율]
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CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4526 |
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고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질]
[1] | 4461 |
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plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
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플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath]
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Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리]
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Descum 관련 문의 사항. [라디컬 및 이온 생성과 플라즈마 생성 메커니즘]
[1] | 4382 |
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Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마]
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Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [Gas별 고유한 플라즈마 색]
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474 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다 [고주파 플라즈마 반응 특성]
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