안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77272
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68922
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92970
467 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4270
466 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4185
465 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4097
464 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 4057
463 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4033
462 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 4029
461 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 4023
460 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3992
459 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3979
458 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3882
457 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3882
456 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3870
455 Descum 관련 문의 사항. [1] 3795
454 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3756
453 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3711
452 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3708
451 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3639
450 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3621
449 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3616
448 ESC Cooling gas 관련 [1] 3596

Boards


XE Login